Artikel ini perlu dirapikan agar memenuhi standar Wikipedia Merapikan artikel bisa berupa membagi artikel ke dalam paragraf atau wikifisasi artikel. Setelah dirapikan, tolong hapus pesan ini.
Artikel ini membutuhkan judul dalam bahasa Indonesia yang sepadan dengan judul aslinya
Chemical Vapor Deposition adalah proses kimia untuk memberi lapisan tipis pada permukaan wafer yang digunakan dalam pembuatan microsystem. Dalam proses ini, komponen gas bereaksi dipermukaan wafer dan membentuk lapisan tipis.
Energi yang digunakan untuk pemecahan dan eksitasi molekul antara lain:
Panas: Thermal CVD
Plasma: Plasma Enhanced CVD (PECVD)
Radiasi: Radiation Enhanced CVD